Directly to develop a device for measuring the high-frequency characteristics do not cut the magnetic material.

Directly Toei science industry has developed a device for measuring the high-frequency characteristics without cut magnetic materials such as semiconductor wafers . It is a mechanism for a special probe is close to the very surface of the wafer , and captures the resistance of the current generated on the surface , to evaluate the thin film and magnetic permeability . It is believed that by incorporating the production line of the wafer is desired to contribute to a significant increase in the production efficiency in the future .
The new device can measure up to 300 mm wafer diameter . Was cut into 5 mm square or so manually wafer to be used in the sample , and evaluating the magnetic characteristics of the current . It can be measured as it new equipment , can greatly reduce the number of manufacturing steps . If the quality evaluation of the production line , and it can be measured in seconds .
By using a probe that was newly developed further , was a measurement limit is (billion Giga ) was able to measure up to 20 GHz or 10 GHz so far . Magnetic film thickness can be measured conventionally was ( one billion parts per nano) 100 nanometers , could be measured up to 10 nanometers with the new apparatus . I aim to measure the film thickness of a few nanometers in the end.
Yabuue Professor of Tohoku Gakuin University Faculty of Engineering has developed a technique for evaluating the magnetic material and captures the current generated in the surface and special probe , was responsible for the mechanism that Toei science to maximize the performance of the probe . I was using a reconstruction program to promote Science and Technology Agency to assist the 20 million yen maximum of (JST).
It is contributing to the improvement of the equipment work efficiency and quality improvement . I I think in deployment can be applied to other fields . Improvement It is field that specializes in the manufacturing site of Japan exactly .



東栄科学産業は、半導体ウエハーなどの磁性材料を切り出さないで直接、高周波特性を測定する装置を開発した。特殊なプローブがウエハーの表面ギリギリまで近づき、表面に発生した電流の抵抗を捉えて、磁性薄膜透磁率などを評価する仕組みだ。将来はウエハーの製造ラインに組み込むことで、生産効率の大幅な引き上げに寄与したい考えだ。
　　新装置は直径３００ミリメートルのウエハーまで測定できる。現在はサンプルに使うウエハーを手作業で５ミリメートル角程度に切り出し、磁性特性を評価している。新装置はそのまま測定できるので、製造工程数の大幅削減が可能。製造ラインでの品質評価であれば、数秒で計測できるという。
　さらに新開発したプローブを使うことで、これまでは１０ギガヘルツ（ギガは１０億）が測定限界だったが２０ギガヘルツ以上まで測れるようになった。従来測定できる磁性膜厚は１００ナノメートル（ナノは１０億分の１）だったが、新装置では１０ナノメートルまで実測できた。最終的には２、３ナノメートルの膜厚の測定を目指す。
　特殊プローブと表面に発生する電流を捉えて磁性材料を評価する技術は、東北学院大学工学部の藪上教授が開発し、東栄科学がプローブの性能を最大限に引き出す機構を担当した。最大２０００万円を補助する科学技術振興機構（ＪＳＴ）の復興促進プログラムを利用した。
　品質向上や作業効率の向上に寄与する装置ですね。他の分野にも応用展開できるのではないでしょうかね。改善はまさに日本のものづくり現場の得意とする分野ですね。